我们的钻石使用两种方法生长：化学气相沉积 (CVD) 和高压 - 高温 (HPHT) 技术。
在 CVD 过程中，将钻石种子（lab-grown 钻石粉末）置于以高温加热并充满富碳气体的真空室中。这种气体经过电离，让纯碳慢慢地附着在钻石粉尘上，一个原子一个原子、一层一层地，最后形成钻石。
关于 HPHT 技术，钻石种子（也是lab-grown 钻石粉末）被放置在一块碳上并暴露在高压和高温条件下。种子与碳块一起熔化，导致周围形成更大的钻石，最终进行冷却以发现所创造的钻石。
我们的钻石使用两种方法生长：化学气相沉积 (CVD) 和高压 - 高温 (HPHT) 技术。
在 CVD 过程中，将钻石种子（lab-grown 钻石粉末）置于以高温加热并充满富碳气体的真空室中。这种气体经过电离，让纯碳慢慢地附着在钻石粉尘上，一个原子一个原子、一层一层地，最后形成钻石。
关于 HPHT 技术，钻石种子（也是lab-grown 钻石粉末）被放置在一块碳上并暴露在高压和高温条件下。种子与碳块一起熔化，导致周围形成更大的钻石，最终进行冷却以发现所创造的钻石。